TF1000-200-HV-T10技术简介产品用途:主要用于稀土制备、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、硬质合金、镍钛记忆合金、3D打印金属件(钛合金TC4、23钛等)真空热处理、真空钎焊等。主要功能和特点:1、炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,耐
2021-04-15 86000/台
真空钎焊炉CUT250技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却
2021-04-15 23000/台
气氛炉AF1200-50参数简介设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺
2021-04-15 36300/台
设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、
2021-04-15 56000/台
VF1300-422型真空炉技术参数(金属屏)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;硬质合金工具、金刚石砂轮等高真空钎焊;钛合金植入物等材料高真空除气。二、主要参数1、炉型结构:卧式,单室,炉体炉门采用
2021-04-15 250000/台
真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、
2021-04-15 85000/台
设备技术参数:设备型号:AF1400炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm较限温度:1400工作温度:1300控温精度:?1度炉内温均:?5度升温
2021-04-15 50000/台
TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产品简介:此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调
2021-04-15 50000/台
气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:
2021-04-15 1688/台
一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行
2021-04-15 50000/台