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伯东代理 KRI 射频离子源 RFKRI射频离子源RFICP系列上海伯东美国KRI射频离子源RFICP系列,无需灯丝提供高能量,低浓度的离子束,通过栅极控制离子束的能量和方向,单次工艺时间更长!射频源RFICP系列提供完整的套装,套装包含离子源本体,电子供应器,中和器,自动控制器等.射频离子源适
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伯东代理 KRI 考夫曼离子源美国KRI考夫曼离子源GriddedKDC系列上海伯东国外进口进口考夫曼离子源KDC系列,加热灯丝产生电子,是典型的考夫曼型离子源,增强设计输出高质量,稳定的电子流.美国KRI考夫曼公司新升级GriddedKDC系列离子源,新的特性包含自对准离子光学和开关
2023-12-14 /个 -
伯东代理KRI 霍尔离子源 eH美国KRI霍尔离子源GridlesseH系列美国KRI霍尔离子源eH系列紧凑设计,高电流低能量宽束型离子源,提供原子等级的细微加工能力,霍尔离子源eH可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面,多种型号满足科研及工业,半导体应用.霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率,低能量
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KRi 射频离子源 RFICP 220因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。KRi射频离子源RFICP220上海伯东代理国外进口进口KRI射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有
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KRi 射频离子源 RFICP 380因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。大口径射频离子源RFICP380上海伯东美国KRI大口径射频离子源RFICP380,3层栅极设计,栅极口径38cm,提供离子动能100-1200eV宽束离子束,套装包含离子源本体和电源控制
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KRI 霍尔离子源 eH 400因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。美国KRI霍尔离子源eH400上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH400低成本设计提供高离子电流,霍尔离子源eH400尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统,可以控制较低的离子能量,通
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KRI 霍尔离子源 eH 1000因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。KRI霍尔离子源eH1000上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH1000**气体利用,低成本设计提供高离子电流,特别适合中型真空系统.通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸
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KRi 射频离子源 RFICP 100因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。KRI射频离子源RFICP100上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼型离子源RFICP100紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出>400mA离子流.考夫曼型离子源RF
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KRI 考夫曼离子源 KDC 75因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。KRI考夫曼离子源KDC75上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼离子源KDC75:紧凑栅极离子源,离子束直径14cm,可安装在8“CF法兰.适用于中小型腔内,考夫曼离子源KDC75包含
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KRi 射频离子源 RFICP 40因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。KRI射频离子源RFICP40上海伯东代理国外进口进口KRI射频离子源RFICP40:目前KRI射频离子源RFICP系列尺寸较小,低成本**离子源.适用于集成在小型的真空腔体内.离子源RFIC
2023-12-14 /个